Semicorex N-тип силициев карбид на прах (SiC) е легиран SiC материал с висока чистота, специално проектиран за усъвършенствани приложения за растеж на кристали. Semicorex се ангажира да предоставя качествени продукти на конкурентни цени, очакваме с нетърпение да станем ваш дългосрочен партньор в Китай.
Semicorex N-тип силициев карбид на прах (SiC) е легиран SiC материал с висока чистота, специално проектиран за усъвършенствани приложения за растеж на кристали. Този прах от силициев карбид от N-тип се характеризира със своите превъзходни електрически свойства и структурна цялост, което го прави идеален избор за производството на кристали от силициев карбид, използвани в различни високопроизводителни полупроводникови устройства.
N-тип силициев карбид на прах е легиран с азот (N), който въвежда допълнителни свободни електрони в кристалната решетка на SiC, подобрявайки нейната електрическа проводимост. Този N-тип допинг е от решаващо значение за приложения, изискващи прецизни електронни свойства. N-тип силициев карбид на прах се подлага на строги процеси на пречистване за постигане на високо ниво на чистота, свеждайки до минимум наличието на примеси, които биха могли да повлияят на процеса на растеж на кристалите и работата на крайния продукт.
Прахът от силициев карбид Semicorex N-type се състои от фини частици с еднакъв размер, които насърчават равномерния растеж на кристалите и подобряват общото качество на кристалите от силициев карбид.
Основно използван при растежа на кристали от силициев карбид, този N-тип прах от силициев карбид е неразделна част от производството на високомощни електронни устройства, сензори за висока температура и различни оптоелектронни компоненти. Също така е подходящ за използване в научноизследователска и развойна дейност в полупроводниковата индустрия.
Характеристики
Модел | Чистота | Плътност на опаковката | D10 | D50 | D90 |
SiC-N-S | >6N | <1,7g/cm3 | 100 μm | 300 μm | 500 μm |
SiC-N-M | >6N | <1,3g/cm3 | 500 μm | 1000μm | 2000μm |
SiC-N-L | >6N | <1,3g/cm3 | 1000μm | 1500 μm | 2500 μm |
Приложения:
Растеж на кристали от силициев карбид: Използва се като изходен материал за отглеждане на висококачествени кристали SiC.
Полупроводникови устройства: Идеални за високомощни и високочестотни електронни компоненти.
Високотемпературна електроника: Подходяща за приложения, които изискват стабилна работа при екстремни условия.
Оптоелектроника: Използва се в устройства, които изискват изключителни топлинни и електрически свойства.