Барелните токосцептори са критичен компонент, използван в различни процеси за производство на полупроводници, като LPE, MOCVD. Semicorex нанася силициев карбид с висока чистота на тънки слоеве върху графита, използвайки процеса на химическо отлагане на пари (CVD), което прави материала полупроводников клас с отлична термична стабилност, химическа устойчивост и устойчивост на износване, което ги прави идеални за използване във високотехнологични температурни процеси.
● Графит с висококачествен SiC покритие
● Превъзходна устойчивост на топлина и химическа устойчивост
● Висока топлинна равномерност
● Отлична устойчивост на износване
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor е щателно проектиран компонент, пригоден за усъвършенствани процеси на производство на полупроводници, особено епитаксия. Нашите продукти имат добро ценово предимство и покриват повечето европейски и американски пазари. Очакваме с нетърпение да станем ваш дългосрочен партньор в Китай.
Прочетете ощеИзпратете запитванеSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite е специализиран компонент, предназначен за използване в процеса на епитаксия, особено при носене на пластини. Свържете се с нас днес, за да научите повече за това как можем да ви помогнем с вашите нужди за обработка на полупроводникови пластини.
Прочетете ощеИзпратете запитванеSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth е продукт с висока производителност, предназначен да осигури постоянна и надеждна работа за продължителен период от време. Равномерният му термичен профил, моделът на ламинарен газов поток и предотвратяването на замърсяване го правят идеален избор за растеж на висококачествени епитаксиални слоеве върху вафлени чипове. Неговата възможност за персонализиране и рентабилност го правят силно конкурентен продукт на пазара.
Прочетете ощеИзпратете запитванеSemicorex Barrel Susceptor Epi System е висококачествен продукт, който предлага превъзходна адхезия на покритието, висока чистота и устойчивост на окисляване при висока температура. Равномерният му термичен профил, моделът на ламинарен газов поток и предотвратяването на замърсяване го правят идеален избор за растеж на епиксиални слоеве върху вафлени чипове. Неговата рентабилност и възможност за персонализиране го правят силно конкурентен продукт на пазара.
Прочетете ощеИзпратете запитванеSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System е иновативен продукт, който предлага отлични термични характеристики, равномерен термичен профил и превъзходна адхезия на покритието. Неговата висока чистота, устойчивост на окисление при висока температура и устойчивост на корозия го правят идеален избор за използване в полупроводниковата индустрия. Неговите персонализирани опции и рентабилност го правят силно конкурентен продукт на пазара.
Прочетете ощеИзпратете запитванеSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor е изключително издръжлив и надежден продукт за отглеждане на епиксиални слоеве върху вафлени чипове. Неговата устойчивост на високотемпературно окисление и висока чистота го правят подходящ за използване в полупроводниковата индустрия. Неговият равномерен термичен профил, модел на ламинарен газов поток и предотвратяване на замърсяване го правят идеален избор за висококачествен растеж на епиксиален слой.
Прочетете ощеИзпратете запитване