Вакуумни патрони

Vacuum Chucks Semicorex са прецизно проектирани разтвори, предназначени да осигурят сигурно, стабилно и ефективно боравене с вафли в производствените процеси на полупроводници. Тези вакуумни патрони се използват главно за задържане на вафли по време на различни етапи на обработка, като гарантират минимални увреждания на вафлите, максималната стабилност и повишената ефективност на процеса. Нашите вакуумни патрони се предлагат в различни основни материали и керамични плочи, предлагащи персонализирани решения за задоволяване на разнообразните нужди на полупроводниковата индустрия и други прецизни индустрии.

Основни характеристики и материали

Semicorex предлага редица опции за основен материал за вакуумния патрон, което позволява персонализиране въз основа на конкретни изисквания за приложение:

Основни материали:

• SUS430: Основен материал от неръждаема стомана, известен със своята здравина и устойчивост на корозия, което осигурява отлична механична стабилност.
• Алуминиева сплав 6061: Лека, но силна, тази алуминиева основа предлага висока устойчивост на корозия и е идеална за приложения, където теглото е проблем.
• Алуминиева керамика (99% алуминиев оксид): предлага висока термична стабилност и устойчивост на износване. Това е отличен избор за среди с висока точност, при която термичната устойчивост е от решаващо значение.
• Гранит: Известен със своята твърдост и превъзходни свойства на затихване на вибрации, гранитът предлага отлична стабилност и прецизност по време на боравенето с вафли.
• Силиконов карбид (SIC) Керамика: предлага висока твърдост, топлопроводимост и устойчивост на химическа корозия. Той е идеален за високотемпературна и агресивна среда.

Керамични плочи:

Алуминий (Al₂o₃): Алуминиевите плочи са известни със своите високи електрически изолационни свойства, устойчивост на износване и стабилност на високата температура. Те са подходящи за среда, при която минималното замърсяване и високата производителност са от решаващо значение.

Силиконов карбид (SIC): SIC керамичните плочи осигуряват изключителна твърдост, висока топлопроводимост и стабилност при повишени температури, което ги прави идеални за модерни процеси на обработка на вафли при производството на полупроводници.

Точност на плоскост и избор на материал

Плостата на повърхността на Чък е критичен фактор за осигуряване на правилна работа с вафли и оптимални резултати от процеса. Изборът на материали се отразява на точността на плоскостта, както и общата тежест и топлинните свойства на вакуумния патрон.

Точност на плоскост:

Алуминиева сплав 6061: осигурява отлична плоскост с прецизност, което го прави популярен избор за по -малко взискателни задачи за обработка на вафли.

SUS430: Докато предлага твърда механична стабилност, SUS430 има малко по -ниска точност на плоскост от алуминиевата сплав.

Алуминиев керамика (99% алуминиев оксид): предлага най -добрата точност на плоскост поради високата си стабилност на размерите при високи температури и механичен стрес.

Гранит: Известен със своята стабилност, гранитът осигурява прецизна плоска, особено в чувствителни към вибрации среди.

Силиконов карбид керамика: осигурява изключителна точност на плоскост и е идеална за високо прецизно обработка на вафли при приложения с висока температура.

Съображения за тегло

Теглото на вакуумния патрон е друг важен фактор, особено за приложенията, при които лекотата на боравене и манипулиране на Чък е ключово съображение.