У дома > Продукти > Покритие със силициев карбид > RTP превозвач > RTP носител за MOCVD епитаксиален растеж
Продукти
RTP носител за MOCVD епитаксиален растеж

RTP носител за MOCVD епитаксиален растеж

Semicorex RTP Carrier за MOCVD епитаксиален растеж е идеален за приложения за обработка на полупроводникови пластини, включително епитаксиален растеж и обработка на обработка на пластини. Въглеродно-графитните приемници и кварцовите тигли се обработват от MOCVD върху повърхността на графит, керамика и др. Нашите продукти имат добро ценово предимство и покриват много от европейските и американските пазари. Очакваме с нетърпение да станем ваш дългосрочен партньор в Китай.

Изпратете запитване

Описание на продукта

Semicorex доставя RTP Carrier за MOCVD епитаксиален растеж, използван за поддържане на вафли, който е наистина стабилен за RTA, RTP или грубо химическо почистване. В основата на процеса, епитаксиалните фиксатори, първо се подлагат на околната среда на отлагане, така че има висока устойчивост на топлина и корозия. Носителят с покритие от SiC също има висока топлопроводимост и отлични свойства за разпределение на топлината.
Нашият RTP носач за MOCVD епитаксиален растеж е проектиран да постигне най-добрия модел на ламинарен газов поток, осигуряващ равномерност на топлинния профил. Това помага да се предотврати каквото и да е замърсяване или дифузия на примеси, като се гарантира висококачествен епитаксиален растеж върху вафления чип.
Свържете се с нас днес, за да научите повече за нашия RTP носител за MOCVD епитаксиален растеж.


Параметри на RTP носител за MOCVD епитаксиален растеж

Основни спецификации на CVD-SIC покритие

SiC-CVD свойства

Кристална структура

FCC β фаза

Плътност

g/cm³

3.21

твърдост

Твърдост по Викерс

2500

Размер на зърното

μm

2~10

Химическа чистота

%

99.99995

Топлинен капацитет

J kg-1 K-1

640

Температура на сублимация

2700

Felexural Сила

MPa (RT 4 точки)

415

Модулът на Йънг

Gpa (4pt завой, 1300 ℃)

430

Термично разширение (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Топлопроводимост

(W/mK)

300


Характеристики на RTP Carrier за MOCVD епитаксиален растеж

Графит с високочисто SiC покритие
Превъзходна устойчивост на топлина и топлинна еднородност
Фин SiC кристал с покритие за гладка повърхност
Висока устойчивост срещу химическо почистване
Материалът е проектиран така, че да не се получават пукнатини и разслояване.





Горещи маркери: RTP носител за MOCVD епитаксиален растеж, Китай, производители, доставчици, фабрика, персонализиран, насипен, усъвършенстван, издръжлив
Свързана категория
Изпратете запитване
Моля, не се колебайте да изпратите вашето запитване във формата по-долу. Ще ви отговорим до 24 часа.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept