Единична кристална силиконова душ глава

Semicorex монокристален силицийдуш главапоказва изключителна устойчивост на корозия, нисък коефициент на разширение и отлична топлопроводимост. Стабилно се адаптира към тежките условия на висока температура, висока корозивност и висок вакуум в производството на полупроводници, той проявява изключителна толерантност към процесните газове като газове за ецване и отлагане. Следователно, монокристалната силициева душ глава се използва широко в процеси на почистване на полупроводници, процеси на окисляване, процеси на отлагане и процеси на ецване.

Semicorex използва усъвършенствани техники за обработка на повърхността, за да гарантира, че повърхността на монокристалния силиконов душ се отличава с изключително висока плоскост и гладкост. Междувременно, разчитайки на стандартизирания дизайн на каналната структура и газовия път, повърхността на монокристалната силиконова душ глава е равномерно разпределена с много пори с еднакъв диаметър (минималният диаметър може да достигне 0,2 милиметра). Толерансът на диаметъра на порите на монокристалната силиконова душ глава се контролира прецизно на ниво микрометър, а вътрешната стена на порите трябва да е гладка и без неравности, гарантирайки точността на разпределението и еднородността на технологичния газ от структурни и технологични аспекти.

Semicorex предоставя експертни услуги за персонализиране, за да отговори на различните нужди на клиентите. Според различните нужди на своите клиенти, той може да персонализира външни решения, за да пасне на размерите и формата на техните реакционни камери. Оптимизираният дизайн позволява на пластините да осъществяват пълен и постоянен контакт с технологичния газ по време на реакционния процес, като гарантира, че газът се разпръсква равномерно в реакционната камера. Това в крайна сметка повишава ефективността на производството и качеството на продукта.