Силициев карбид ICP ецващ носител

Търсите надежден носител на пластини за процеси на ецване? Не търсете повече от Silicon Carbide ICP Etching Carrier на Semicorex. Нашият продукт е проектиран да издържа на високи температури и грубо химическо почистване, гарантирайки издръжливост и дълготрайност. С чиста и гладка повърхност, нашият носач е перфектен за обработка на чисти вафли.

Изпратете запитване

Описание на продукта

Осигурете оптимални модели на ламинарен газов поток и равномерност на термичния профил с ICP ецващия носител от силициев карбид на Semicorex. Нашият продукт е предназначен за постигане на възможно най-добри резултати при процеси на отлагане на тънък слой и обработка на пластини. С превъзходна устойчивост на топлина и корозия, нашият носач е идеалният избор за взискателни приложения.

В Semicorex ние се фокусираме върху предоставянето на висококачествени, рентабилни продукти на нашите клиенти. Нашият силициев карбид ICP Etching Carrier има ценово предимство и се изнася за много европейски и американски пазари. Ние се стремим да бъдем ваш дългосрочен партньор, предоставяйки продукти с постоянно качество и изключително обслужване на клиентите.

Свържете се с нас днес, за да научите повече за нашия носител за ецване от силициев карбид ICP.

Параметри на ICP ецващ носител от силициев карбид

Основни спецификации на CVD-SIC покритие
SiC-CVD свойства
Кристална структура	FCC β фаза
Плътност	g/cm³	3.21
твърдост	Твърдост по Викерс	2500
Размер на зърното	μm	2~10
Химическа чистота	%	99.99995
Топлинен капацитет	J kg-1 K-1	640
Температура на сублимация	℃	2700
Felexural Сила	MPa (RT 4 точки)	415
Модулът на Йънг	Gpa (огъване 4 точки, 1300 ℃)	430
Термично разширение (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Топлопроводимост	(W/mK)	300