SiC ток за ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor за ICP Etch се произвежда с фокус върху поддържането на високи стандарти за качество и последователност. Устойчивите производствени процеси, използвани за създаването на тези фиксатори, гарантират, че всяка партида отговаря на строги критерии за ефективност, осигурявайки надеждни и постоянни резултати при ецване на полупроводници. В допълнение, Semicorex е оборудван да предлага бързи графици за доставка, което е от решаващо значение за поддържане на темпото с бързите изисквания на полупроводниковата индустрия, като гарантира, че производствените срокове са спазени без компромис с качеството. Ние от Semicorex сме посветени на производството и доставката на високопроизводителни SiC Susceptor за ICP Etch, който съчетава качество с рентабилност.**

Изпратете запитване

Описание на продукта

Semicorex SiC Susceptor за ICP Etch е известен с отличната си топлопроводимост, която позволява бързо и равномерно разпределение на топлината по повърхността. Тази характеристика е от решаващо значение за поддържане на постоянна температура по време на процеса на ецване, осигурявайки висока прецизност при прехвърляне на модела. В допълнение, ниският коефициент на топлинно разширение на SiC минимизира промените в размерите при различни температури, като по този начин поддържа структурната цялост и поддържа прецизно и равномерно отстраняване на материала.

Едно от забележителните свойства на SiC Susceptor за ICP Etch е тяхната устойчивост на плазмен удар. Тази устойчивост гарантира, че токът не се разгражда или ерозира при суровите условия на плазмено бомбардиране, което е често срещано при тези процеси на ецване. Тази издръжливост повишава надеждността на процеса на ецване и допринася за производството на чисти, добре дефинирани модели на ецване с минимални дефекти.

SiC Susceptor за ICP Etch е по своята същност устойчив на корозия от силни киселини и основи, което е съществено свойство за материалите, използвани в среди за ICP ецване. Тази химическа устойчивост гарантира, че SiC Susceptor за ICP Etch поддържа своите физически и механични свойства във времето, дори когато е изложен на агресивни химически реагенти. Тази издръжливост намалява необходимостта от честа подмяна и поддръжка, като по този начин намалява оперативните разходи и увеличава времето за работа на съоръженията за производство на полупроводници.

Semicorex SiC Susceptor за ICP Etch може да бъде прецизно проектиран да отговаря на специфични изисквания за размери, което е критичен фактор в производството на полупроводници, където често е необходимо персонализиране, за да се приспособят различни размери на пластини и спецификации за обработка. Тази адаптивност позволява по-добра интеграция със съществуващо оборудване и технологични линии, като оптимизира общата ефективност и ефективност на процеса на ецване.