Електростатичен патронник E-Chuck

Semicorex Electrostatic Chuck E-Chuck работи на принципите на електростатичното привличане, предлагайки надеждно и прецизно задържане на пластини без необходимост от механични скоби или вакуумно засмукване, особено използвани при ецване, йонно импулсиране

обработка на полупроводници, PVD, CVD и др. Неговите адаптивни размери го правят адаптивен към широк спектър от приложения, което го прави идеален избор за компании, търсещи гъвкавост и ефективност в процесите на производство на полупроводници.

Основната технология зад електростатичния патронник тип J-R E-Chuck е способността му да генерира електростатична сила между пластината и повърхността на патронника. Тази сила се създава чрез прилагане на високо напрежение към електроди, вградени в патронника, което индуцира заряди както върху пластината, така и върху патронника, като по този начин създава силна електростатична връзка. Този механизъм не само държи вафлата на място сигурно, но също така минимизира физическия контакт между пластината и патронника, като намалява потенциалното замърсяване или механично напрежение, което може да повреди чувствителните полупроводникови материали.

Semicorex може да произвежда продукти по поръчка, от 200 mm до 300 mm или дори по-големи, в зависимост от изискванията на клиентите. Като предлага тези персонализирани опции, J-R тип ESC осигурява максимална гъвкавост за набор от полупроводникови процеси, включително плазмено ецване, химическо отлагане на пари (CVD), физическо отлагане на пари (PVD) и имплантиране на йони.

По отношение на материалите, Electrostatic Chuck E-Chuck е изработен от висококачествени керамични материали, като алуминиев оксид (Al2O3) или алуминиев нитрид (AlN), които са известни със своите отлични диелектрични свойства, механична якост и термична стабилност. Тази керамика осигурява на патронника необходимата издръжливост, за да издържи на суровите условия на производство на полупроводници, като високи температури, корозивна среда и излагане на плазма. В допълнение, керамичната повърхност е полирана до висока степен на гладкост, за да се осигури равномерен контакт с пластината, засилвайки електростатичната сила и подобрявайки цялостната производителност на процеса.

Електростатичният патронник E-Chuck също е проектиран да се справя с термичните предизвикателства, често срещани при производството на полупроводници. Управлението на температурата е критично по време на процеси като ецване или отлагане, където температурата на пластината може да варира бързо. Керамичните материали, използвани в патронника, осигуряват отлична топлопроводимост, спомагайки за ефективното разсейване на топлината и поддържането на стабилна температура на пластината.

Електростатичният патронник E-Chuck е проектиран с акцент върху минимизиране на замърсяването с частици, което е критично при производството на полупроводници, където дори микроскопичните частици могат да доведат до дефекти в крайния продукт. Гладката керамична повърхност на патронника намалява вероятността от залепване на частици, а намаленият физически контакт между пластината и патронника, благодарение на електростатичния задържащ механизъм, допълнително намалява риска от замърсяване. Някои модели на J-R тип ESC също така включват усъвършенствани повърхностни покрития или обработки, които отблъскват частици и са устойчиви на корозия, подобрявайки дълготрайността и надеждността на патронника в среда на чисти помещения.

В обобщение, електростатичният патронник тип J-R E-Chuck е универсално и надеждно решение за държане на пластини, което предлага изключителна производителност в широк спектър от процеси за производство на полупроводници. Неговият адаптивен дизайн, усъвършенстваната електростатична технология за задържане и здравите свойства на материала го правят идеален избор за компании, които искат да оптимизират обработката на пластини, като същевременно поддържат най-високите стандарти за чистота и прецизност. Независимо дали се използва при плазмено ецване, отлагане или йонно имплантиране, J-R тип ESC осигурява гъвкавостта, издръжливостта и ефективността, необходими за посрещане на взискателните нужди на днешната полупроводникова индустрия. Със способността си да работи както в режим на Coulomb, така и в режим на Johnsen-Rahbek, да издържа на високи температури и да издържа на замърсяване с частици, J-R тип ESC стои като критичен компонент в преследването на по-високи добиви и подобрени резултати от процеса.