Сензорът за пластини Semicorex е специално проектиран за процеса на епитаксия на полупроводници. Той играе жизненоважна роля за осигуряване на прецизност и ефективност при обработката на пластини. Ние сме водещо предприятие в китайската полупроводникова индустрия, ангажирано да ви предоставя най-добрите продукти и услуги.*
Semicorex Wafer Susceptor е експертно изработен от графит и покрит със силициев карбид (SiC), за да отговори на взискателните условия на съвременното производство на полупроводници.
При процесите на епитаксия поддържането на стабилна и контролирана среда е абсолютно необходимо. Wafer Susceptor служи като основна платформа, върху която се поставят вафли по време на отлагане, отговаряйки на прецизни изисквания за температурна равномерност, химическа инертност и механична якост за постигане на висококачествени епитаксиални слоеве.
Изборът на графит като основен материал за Wafer Susceptor се дължи на неговата отлична топлопроводимост и механични свойства. Способността на графита да издържа на високи температури, като същевременно поддържа структурната цялост, е от решаващо значение във високотемпературните среди на епитаксиалните реактори. В допълнение, топлопроводимостта на графита осигурява ефективно разпределение на топлината през пластината, намалявайки риска от температурни градиенти, които могат да доведат до дефекти в епитаксиалния слой.
За подобряване на производителността на Wafer Susceptor върху графитната основа е експертно нанесено покритие от силициев карбид (SiC). SiC е изключително издръжлив материал с превъзходна химическа устойчивост, което го прави идеален за използване в полупроводникови среди, където често има реактивни газове. Покритието SiC осигурява защитна бариера, която предпазва графита от потенциални химични реакции, като гарантира дълготрайността на фиксатора на пластината и поддържа чиста среда в реактора.
Semicorex Wafer Susceptor, изработен от графит с покритие от SiC, е незаменим компонент в процесите на епитаксия на полупроводници. Неговата комбинация от термични и механични свойства на графита с химическата и термична стабилност на силициевия карбид го прави идеално подходящ за строгите изисквания на съвременното производство на полупроводници. Дизайнът с единична пластина предлага прецизен контрол върху процеса на епитаксия, допринасяйки за производството на висококачествени полупроводникови устройства. Този приемник гарантира, че пластините се обработват с най-голямо внимание и прецизност, което води до превъзходни епитаксиални слоеве и по-добре работещи полупроводникови продукти.