Покритие от танталов карбид Halfmoon Part

Semicorex Tantalum Carbide Coating Halfmoon Part е високоспециализиран компонент, предназначен за приложение в процеса на епитаксиално отлагане. Тази част Halfmoon с покритие от танталов карбид е ключова в среди, където устойчивостта на високи температури, изключителната издръжливост и несравнимата химическа инертност са наложителни.

Частта Halfmoon с покритие от танталов карбид е изработена от танталов карбид с висока чистота, предлагащ отлична топлопроводимост и изключителна устойчивост на високи температури и термичен шок. Покритието TaC осигурява допълнителен слой защита срещу корозивни химикали и тежки среди, типични за епитаксиалните реактори. Покритието подобрява издръжливостта и продължителността на живота на частта, като осигурява постоянна работа при множество цикли.

Частта Halfmoon с покритие от танталов карбид е способна да издържа на температури до 2200°C, което я прави идеална за високотемпературни процеси. Проявява ниска реактивност със силиций и други полупроводникови материали, като запазва целостта на епитаксиалните слоеве.

Покритие от танталов карбид Halfmoon Част, използвана предимно в полупроводниковата индустрия, по-специално при епитаксиалното израстване на силициев карбид. Подходящ за използване както в изследователски, така и в промишлени епитаксиални реактори.