PSS носител за обработка на вафли

Носачът за манипулиране на PSS за трансфер на пластини от Semicorex е проектиран да отговаря на изискванията за високотемпературно и сурово химическо почистване за епитаксиален растеж и процеси на обработка на пластини. Нашият ултрачист графитен носител е идеален за фази на отлагане на тънък слой като MOCVD, епитаксиални приемници, палачинкови или сателитни платформи и обработка на обработка на пластини като ецване. Носителят с покритие от SiC има отлични свойства за разпределение на топлината, висока топлопроводимост и е рентабилен.

Свържете се с нас днес, за да научите повече за нашия PSS носител за обработка на вафли.

Параметри на PSS обработка на носителя за прехвърляне на вафли

Характеристики на PSS Handling Carrier for Wafer Transfer

- Избягвайте отлепването и осигурете покритие върху цялата повърхност

Устойчивост на високотемпературно окисляване: Стабилен при високи температури до 1600°C

Висока чистота: направено чрез CVD химическо отлагане на пари при условия на високотемпературно хлориране.

Устойчивост на корозия: висока твърдост, плътна повърхност и фини частици.

Устойчивост на корозия: киселини, основи, соли и органични реагенти.

- Постигане на най-добрия модел на ламинарен газов поток

- Гарантирана равномерност на термичния профил

- Предотвратете всякакво замърсяване или дифузия на примеси