Semicorex PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor е специално проектирана за високотемпературни и сурови химически почистващи среди, необходими за епитаксиален растеж и процеси на обработка на пластини. Нашата ултрачиста PSS носеща плоча за ецване за полупроводници е проектирана да поддържа пластини по време на фази на отлагане на тънък слой като MOCVD и епитаксиални приемници, палачинки или сателитни платформи. Нашият носач с SiC покритие има висока устойчивост на топлина и корозия, отлични свойства за разпределение на топлината и висока топлопроводимост. Ние предлагаме рентабилни решения на нашите клиенти и нашите продукти покриват много европейски и американски пазари. Semicorex очаква с нетърпение да бъде ваш дългосрочен партньор в Китай.
Носещата плоча за ецване PSS за полупроводници от Semicorex е идеалното решение за фази на отлагане на тънък слой като MOCVD, епитаксиални приемници, палачинкови или сателитни платформи и обработка на обработка на пластини като ецване. Нашият изключително чист графитен носител е проектиран да поддържа вафли и да издържа на грубо химическо почистване и среда с висока температура. Носачът с покритие от SiC има висока устойчивост на топлина и корозия, отлични свойства за разпределение на топлината и висока топлопроводимост. Нашите продукти са рентабилни и имат добро ценово предимство.
Свържете се с нас днес, за да научите повече за нашата PSS ецваща носеща плоча за полупроводници.
Параметри на PSS ецваща носеща плоча за полупроводници
Основни спецификации на CVD-SIC покритие |
||
SiC-CVD свойства |
||
Кристална структура |
FCC β фаза |
|
Плътност |
g/cm³ |
3.21 |
Твърдост |
Твърдост по Викерс |
2500 |
Размер на зърното |
μm |
2~10 |
Химическа чистота |
% |
99.99995 |
Топлинен капацитет |
J kg-1 K-1 |
640 |
Температура на сублимация |
℃ |
2700 |
Felexural Сила |
MPa (RT 4 точки) |
415 |
Модулът на Йънг |
Gpa (огъване 4 точки, 1300 ℃) |
430 |
Термично разширение (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Топлопроводимост |
(W/mK) |
300 |
Характеристики на PSS ецваща носеща плоча за полупроводници
- Избягвайте отлепването и осигурете покритие върху цялата повърхност
Устойчивост на високотемпературно окисляване: Стабилен при високи температури до 1600°C
Висока чистота: направено чрез CVD химическо отлагане на пари при условия на високотемпературно хлориране.
Устойчивост на корозия: висока твърдост, плътна повърхност и фини частици.
Устойчивост на корозия: киселини, основи, соли и органични реагенти.
- Постигане на най-добрия модел на ламинарен газов поток
- Гарантирана равномерност на термичния профил
- Предотвратете всякакво замърсяване или дифузия на примеси