Фокусиращият пръстен за плазмена обработка Semicorex е специално проектиран да отговори на високите изисквания на обработката с плазмено ецване в полупроводниковата индустрия. Нашите усъвършенствани компоненти с покритие от силициев карбид с висока чистота са създадени да издържат на екстремни среди и са подходящи за използване в различни приложения, включително слоеве от силициев карбид и епитаксиални полупроводници.
Прочетете ощеИзпратете запитванеДържачът за пластини на Semicorex за ICP процес на ецване е идеалният избор за взискателна работа с пластини и процеси на отлагане на тънък слой. Нашият продукт може да се похвали с превъзходна устойчивост на топлина и корозия, равномерна топлинна еднородност и оптимални модели на ламинарен газов поток за постоянни и надеждни резултати.
Прочетете ощеИзпратете запитванеICP Silicon Carbon Coated Graphite на Semicorex е идеалният избор за взискателна обработка на пластини и процеси на отлагане на тънък слой. Нашият продукт може да се похвали с превъзходна устойчивост на топлина и корозия, равномерна топлинна еднородност и оптимални модели на ламинарен газов поток.
Прочетете ощеИзпратете запитванеИзберете системата за плазмено ецване ICP на Semicorex за PSS процес за висококачествена епитаксия и MOCVD процеси. Нашият продукт е проектиран специално за тези процеси, като предлага превъзходна устойчивост на топлина и корозия. С чиста и гладка повърхност, нашият носач е перфектен за работа с чисти вафли.
Прочетете ощеИзпратете запитванеICP Plasma Etching Plate на Semicorex осигурява превъзходна устойчивост на топлина и корозия за работа с вафли и процеси на отлагане на тънък слой. Нашият продукт е проектиран да издържа на високи температури и грубо химическо почистване, гарантирайки издръжливост и дълготрайност. С чиста и гладка повърхност, нашият носач е перфектен за работа с чисти вафли.
Прочетете ощеИзпратете запитванеSiC плочата на Semicorex за ICP процес на ецване е идеалното решение за високотемпературни и сурови изисквания за химическа обработка при отлагане на тънък слой и обработка на пластини. Нашият продукт може да се похвали с превъзходна топлоустойчивост и дори термична еднородност, осигурявайки постоянна дебелина и устойчивост на епи слоя. С чиста и гладка повърхност, нашето кристално покритие SiC с висока чистота осигурява оптимално боравене с чисти вафли.
Прочетете ощеИзпратете запитване