Епитаксиална монокристална Si плоча

Основен атрибут на епитаксиалната монокристална Si Plate се крие в нейната превъзходна плътност. Интегрирането на графитен субстрат с покритие от силициев карбид дава цялостна плътност, която е умела да защитава срещу строгите условия, срещани при висока температура и корозивни среди. Освен това, покритият със силициев карбид сензор, пригоден за синтеза на монокристали, може да се похвали с изключително равномерен повърхностен профил – критичен фактор за устойчивото производство на пластини с безупречно качество.

Също толкова важно за дизайна на нашия продукт е смекчаването на несъответствията в топлинното разширение между графитното ядро ​​и неговото покритие от силициев карбид. Подобна иновация значително увеличава здравината на лепилото, като по този начин заобикаля феномена на фисури и стратификация. В синхрон с това, епитаксиалната монокристална Si Plate показва повишена топлопроводимост, съчетана с похвална склонност към равномерно разпределение на топлината – фактори, които са инструмент за постигане на хомогенност на температурата по време на производствения цикъл.

Освен това, епитаксиалната монокристална Si Plate демонстрира похвална устойчивост на окислително и корозивно разграждане при повишени температури, което е в основата на нейната дълготрайност и надеждност. Неговият праг за термична издръжливост се подчертава от значителна точка на топене, като по този начин се гарантира способността му да издържи на взискателната термична среда, присъща на умелото производство на полупроводници