SIC покрити вафли

Semicorex SIC покрити с вафли са проектирани да отговарят на изискванията за натискане за производството на усъвършенствани полупроводници, особено в системи за отлагане на ултратински филми без натиск. Прецизно проектирани, те предлагат превъзходни топлинни характеристики, химическа издръжливост и механична стабилност-важна за среда от следващо поколение за обработка на тънки филми.

При техниките за отлагане, които не използват налягане, като отлагане на атомен слой (ALD), отлагане на химически пари (CVD) и физическо отлагане на пари (PVD) за много тънки филми, основните изисквания са равномерно разпределение на температурата и повърхностна стабилност. Уникалността на дизайна на нашия SOSCEPTOR се крие във факта, че той включва пореста субстрат с висока чистота, който му позволява да работи ефективно при вакуум или почти вакуумни условия, като по този начин намалява топлинния стрес и осигурява равномерен пренос на енергия върху повърхността на вафлите.

Структурата на много дупки е ключова иновация: тя помага за намаляване на топлинната маса, насърчава равномерното разпределение на потока на газ и смекчава колебанията на налягането, които в противен случай биха могли да компрометират равномерността на отлагането. Тази структура също допринася за по-бързи цикли на термично усилване и охлаждане, засилвайки общата пропускателна способност и контрола на процесите.

Ние предлагаме набор от размери на чувствителните размери, геометрии и нивата на порьозност, за да съответстват на различни дизайни на системата за отлагане и размери на вафли. Модулният характер на нашия производствен процес позволява персонализиране да отговаря на специфични термични, механични и химични изисквания на процеса на тънките филми на клиента.

Semicorex SIC покритие на вафли е високоефективно решение, съобразено с уникалните предизвикателства на отлагането на ултратински филм за налягане. Неговата комбинация от пореста структурна дизайн и стабилно SIC покритие осигурява оптимална поддръжка за производствени процеси с висока точност на полупроводници, което позволява по-добро качество на филма, по-високи добиви и по-ниски експлоатационни разходи.