Пластинчатият диск с покритие Semicorex SiC представлява водещ напредък в технологията за производство на полупроводници, играейки съществена роля в сложния процес на производство на полупроводници. Проектиран с прецизна прецизност, този диск е изработен от превъзходен графит с SiC покритие, осигуряващ изключителна производителност и издръжливост за приложения на силициева епитаксия. Ние от Semicorex сме посветени на производството и доставката на високопроизводителни дискове с вафли с покритие от SiC, които съчетават качество с рентабилност.
Основата на пластинчатия диск с покритие Semicorex SiC се състои от висококачествен графит, експертно покрит с химическо отлагане на газове (CVD) SiC. Тази усъвършенствана конструкция осигурява изключителна устойчивост на термични удари и химическо разграждане, като значително удължава живота на покрития със SiC пластинчат диск и осигурява надеждна работа през целия процес на производство на полупроводници.
За отбелязване е, че пластинчатият диск с покритие от SiC превъзхожда топлопроводимостта, която е критична за ефективното разсейване на топлината по време на производството на полупроводници. Тази функция минимизира термичните градиенти по повърхността на пластината, насърчавайки равномерно разпределение на температурата, което е от съществено значение за постигане на желаните характеристики на полупроводника.
SiC покритието предлага стабилна защита срещу химическа корозия и термичен шок, поддържайки целостта на покрития със SiC пластинчат диск дори в тежки производствени среди. Тази подобрена издръжливост води до по-дълъг експлоатационен живот и намалено време на престой, допринасяйки за повишена производителност и ефективност на разходите в съоръженията за производство на полупроводници.
Освен това покритият със SiC пластинчат диск може да бъде пригоден да отговаря на специфични изисквания и предпочитания. Предоставяме опции за персонализиране, вариращи от корекции на размера до вариации в дебелината на покритието, което позволява гъвкавост на дизайна, която оптимизира производителността при различни приложения и параметри на процеса.