Със своята изключителна топлопроводимост и свойства за разпределение на топлината, структурата Semicorex Barrel Structure for Semiconductor Epitaxial Reactor е идеалният избор за използване в LPE процеси и други приложения за производство на полупроводници. Неговото SiC покритие с висока чистота осигурява превъзходна защита при висока температура и корозивна среда.
Прочетете ощеИзпратете запитванеАко се нуждаете от графитен токосцептор, който може да работи надеждно и последователно дори в най-взискателните високотемпературни и корозивни среди, Semicorex Barrel Susceptor за епитаксия в течна фаза е идеалният избор. Неговото покритие от силициев карбид осигурява отлична топлопроводимост и разпределение на топлината, осигурявайки изключителна производителност в приложения за производство на полупроводници.
Прочетете ощеИзпратете запитванеСъс своята отлична плътност и топлопроводимост, Semicorex Durable SiC-Coated Barrel Susceptor е идеалният избор за използване в епитаксиални процеси и други приложения за производство на полупроводници. Неговото SiC покритие с висока чистота осигурява превъзходна защита и свойства за разпределение на топлината, което го прави предпочитан избор за надеждни и постоянни резултати.
Прочетете ощеИзпратете запитванеЩо се отнася до производството на полупроводници, високотемпературният SiC-Coated Barrel Susceptor Semicorex е най-добрият избор за превъзходна производителност и надеждност. Неговото висококачествено SiC покритие и изключителната топлопроводимост го правят идеален за използване дори в най-взискателните високотемпературни и корозивни среди.
Прочетете ощеИзпратете запитванеSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for Wafer Epitaxial е перфектният избор за приложения за растеж на единични кристали, благодарение на своята изключително плоска повърхност и висококачествено SiC покритие. Неговата висока точка на топене, устойчивост на окисляване и устойчивост на корозия го правят идеален избор за използване при висока температура и корозивна среда.
Прочетете ощеИзпратете запитване