Керамични електростатични патронници

Керамични електростатични патроннициса прецизни компоненти, които използват електростатичното поле, генерирано между електродите и пластините, за да захванат и фиксират пластините. Те се прилагат широко в области като полупроводници, дисплеи с плосък панел и оптика и са основни компоненти на оборудване от висок клас като PVD устройства, машини за ецване и йонни имплантори.

В сравнение с традиционните механични патронници и вакуумни патронници, керамичните електростатични патронници имат много предимства в областта на производството на полупроводници. Този керамичен електростатичен патронник използва статично електричество, за да изравнява и равномерно задържа пластините върху повърхността си. Тази равномерна адсорбционна сила може да поддържа адсорбирания обект относително плосък, избягвайкивафлаизкривяване или деформация, която може да бъде причинена от традиционните механични патронници иливакуумни патронниции гарантиране, че пластината поддържа точност на обработка, подходяща за високопрецизни полупроводникови процеси.

Някои керамични електростатични патронници имат интегрирани функции за нагряване, които могат точно да контролират температурата на пластината чрез обратен газ или вътрешни нагревателни електроди, да се адаптират към строгите температурни изисквания на различни процеси и да подобрят стабилността на обработката.

За разлика от механичните патронници, керамичните електростатични патронници намаляват механичните движещи се части, намаляват въздействието на замърсителите от частици върху качеството на пластините, ефективно защитават чистотата на повърхността на пластините и подобряват добива на продукта.

Керамичните електростатични патронници предлагат широка съвместимост. Те могат да поемат пластини с различни размери и материали, включително силиций, галиев арсенид и силициев карбид, отговаряйки на различни нужди за производство на полупроводници.

Те могат да работят стабилно в среда с висок вакуум, като йонна имплантация и CVD, преодолявайки ограниченията на традиционните вакуумни патронници, които не могат да абсорбират пластини във вакуумна среда, и перфектно отговаряйки на изискванията на процеса на йонна имплантация, химическо отлагане на пари (CVD) и други процеси в производството на полупроводници.