Пластината Silicon On Insulator, известна още като пластина Silicon-On-Insulator, е вид полупроводникова пластина, която се използва широко в производството на усъвършенствани интегрални схеми (IC). Semicorex се ангажира да предоставя качествени продукти на конкурентни цени, очакваме с нетърпение да станем ваш дългосрочен партньор в Китай.
Структурата на пластината Silicon On Insulator се състои от три основни слоя. Най-горният слой е тънък филм от монокристален силиций, обикновено с дебелина от няколко нанометра до няколко микрометра. Този тънък силициев слой служи като активна област, където са изградени транзистори и други електронни компоненти.
Под тънкия силициев слой има слой от изолационен материал. Този изолационен слой действа като бариера, предотвратявайки потока на електрически заряди между тънкия силициев слой и субстратния слой.
Долният слой е субстратът, който е по-дебел слой от монокристален силиций. Той осигурява механична опора на пластината и също така служи като радиатор за разсейване на генерираната топлина.
Производственият процес на пластината Silicon On Insulator включва различни техники, включително методи за свързване на пластини и прехвърляне на слоеве. Тези техники позволяват създаването на висококачествен тънък силиконов слой върху изолационния слой.
Пластината Silicon On Insulator става все по-важна в полупроводниковата индустрия, особено в производството на микропроцесори, устройства с памет, RF вериги и високоскоростни комуникационни системи. Уникалната им структура и предимства ги правят предпочитан избор за съвременни електронни приложения, допринасящи за по-бързи и по-ефективни устройства в различни области.