Пръстен за фокусиране от SiC

Semicorex SiC Focus Ring е прецизно проектиран компонент с пръстеновидна форма, произведен от силициев карбид с висока чистота. SiC Focus Ring е предназначен за усъвършенствани приложения за обработка на полупроводници. Силициевият карбид с висока чистота осигурява отлична производителност по отношение на термична стабилност (висока точка на топене), механична издръжливост (висока твърдост) и свойства на електропроводимост, което е от решаващо значение за съответствие със спецификациите на много технологии за производство на пластини от следващо поколение. SiC Focus Ring са компоненти, намиращи се в компонентите на камерата за плазмено ецване и отлагане, и играят съществена роля за контролиране на разпределението на плазмата, постигане на еднородност на пластините и добив при масово производство.

Чистотата на материала и електрическите характеристики на SiC Focus Ring са едни от най-важните фактори, които определят този компонент и го отличават от керамичните материали. Висока чистотасилициев карбиде за разлика от традиционните керамични материали, тъй като осигурява комбинация от 

твърдост, както и устойчивост на много химикали и уникални електрически свойства. По-важното е, че силициевият карбид с висока чистота може да бъде конструиран с помощта на добавки и методи за обработка, за да се произведат най-подходящите нива на проводимо или обидно представяне с идеалния полупроводящ баланс за взаимодействие с плазмата, което позволява стабилна работа във високоенергийни среди, където натрупването на заряд и електрическият дисбаланс е по-вероятно да причинят грешки в процеса.

Поради ръбовия ефект на плазмата, плътността е по-висока в центъра и по-ниска в краищата. Фокусният пръстен, чрез своята пръстеновидна форма и свойствата на материала CVD SiC, генерира специфично електрическо поле. Това поле насочва и ограничава заредените частици (йони и електрони) в плазмата към повърхността на пластината, особено по ръба. Това ефективно повишава плътността на плазмата в ръба, доближавайки я до тази в центъра. Това значително подобрява равномерността на ецване по пластината, намалява увреждането на ръба и увеличава добива.

Mercury Manufacturing обработва SiC Focus Ring, използвайки сложни процеси на обработка и полиране, които постигат строги толеранси на размерите и гладка повърхност. Точността на размерите на тези компоненти позволява съвместимост с различните доставчици на полупроводниково оборудване, за да се осигури взаимозаменяемост в много системи за плазмено ецване и отлагане. Могат да бъдат разработени и персонализирани дизайни, които да отговарят на специфични изисквания на процеса, включително дебелина на пръстена, вътрешен и външен диаметър и нива на повърхностна проводимост.

Приложенията на SiC Focus Ring покриват широк спектър в производството на полупроводници: DRAM, NAND флаш, логически устройства и нови технологии за силови полупроводници. Тъй като геометрията на устройствата се свива и продължава да напредва през процесните възли, необходимостта от високонадеждни стабилни камерни компоненти като SiC Focus Ring става критична. SiC Focus Ring позволява точен контрол на плазмата и последователно подобрява качеството на пластините, засилвайки амбициите на индустрията към все по-малки, по-бързи и ефективни електронни устройства. Semicorex SiC Focus Ring определя пресечната точка на материалознанието, прецизното инженерство и еволюцията на полупроводниковите процеси. SiC Focus Ring има отлична термична стабилност, превъзходна химическа устойчивост и почти специфична електрическа проводимост. Тези характеристики го правят критичен компонент за осигуряване на надеждност и добив по време на процесите.