Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor е изключително издръжлив и надежден продукт за отглеждане на епиксиални слоеве върху вафлени чипове. Неговата устойчивост на високотемпературно окисление и висока чистота го правят подходящ за използване в полупроводниковата индустрия. Неговият равномерен термичен профил, модел на ламинарен газов поток и предотвратяване на замърсяване го правят идеален избор за висококачествен растеж на епиксиален слой.
Прочетете ощеИзпратете запитванеСъс своята висока точка на топене, устойчивост на окисляване и устойчивост на корозия, цилиндърът Semicorex SiC-Coated Barrel Susceptor е идеалният избор за използване в приложения за растеж на единични кристали. Неговото покритие от силициев карбид осигурява изключителна плоскост и свойства за разпределение на топлината, осигурявайки надеждна и постоянна работа дори в най-взискателните високотемпературни среди.
Прочетете ощеИзпратете запитване