Носачът с SiC покритие на Semicorex за ICP Plasma Etching System е надеждно и рентабилно решение за процеси на обработка на пластини при висока температура, като епитаксия и MOCVD. Нашите носители се отличават с фино кристално покритие от SiC, което осигурява превъзходна устойчивост на топлина, равномерна топлинна еднородност и трайна химическа устойчивост.
Прочетете ощеИзпратете запитванеДържачът за пластини на Semicorex за ICP процес на ецване е идеалният избор за взискателна работа с пластини и процеси на отлагане на тънък слой. Нашият продукт може да се похвали с превъзходна устойчивост на топлина и корозия, равномерна топлинна еднородност и оптимални модели на ламинарен газов поток за постоянни и надеждни резултати.
Прочетете ощеИзпратете запитванеСиликоновата плоча за ецване на Semicorex за приложения за ецване на PSS е висококачествен, ултра-чист графитен носител, който е специално проектиран за процеси на епитаксиално израстване и обработка на пластини. Нашият носач може да издържи на сурови условия, високи температури и грубо химическо почистване. Силиконовата ецваща плоча за приложения за ецване на PSS има отлични свойства за разпределение на топлината, висока топлопроводимост и е рентабилна. Нашите продукти се използват широко в много европейски и американски пазари и ние с нетърпение очакваме да станем ваш дългосрочен партньор в Китай.
Прочетете ощеИзпратете запитване