Продукти

View as

Високотемпературно SiC покритие за камери за плазмено ецване

Когато става въпрос за процеси за обработка на пластини като епитаксия и MOCVD, високотемпературното SiC покритие на Semicorex за камери за плазмено ецване е най-добрият избор. Нашите носители осигуряват превъзходна устойчивост на топлина, дори топлинна еднородност и трайна химическа устойчивост благодарение на нашето фино кристално покритие от SiC.

Прочетете още Изпратете запитване

Силициево епитаксиално отлагане в варелен реактор

Ако имате нужда от високоефективен графитен приемник за използване в приложения за производство на полупроводници, реакторът Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor е идеалният избор. Неговото SiC покритие с висока чистота и изключителна топлопроводимост осигуряват превъзходна защита и свойства за разпределение на топлината, което го прави предпочитан избор за надеждна и постоянна работа дори в най-трудните среди.

Прочетете още Изпратете запитване

Варелна структура за полупроводников епитаксиален реактор

Със своята изключителна топлопроводимост и свойства за разпределение на топлината, структурата Semicorex Barrel Structure for Semiconductor Epitaxial Reactor е идеалният избор за използване в LPE процеси и други приложения за производство на полупроводници. Неговото SiC покритие с висока чистота осигурява превъзходна защита при висока температура и корозивна среда.

Прочетете още Изпратете запитване

<1 >

Искате ли да купите усъвършенстван и издръжлив carbide-graphite? Semicorex определено е вашият добър избор. Ние сме известни като един от най-конкурентните carbide-graphite производители и доставчици в Китай. Ние също така предлагаме насипни опаковки. Може да се нуждаете от някои персонализирани услуги, за да отговорите на действителните нужди на вашия регион, можете да ни оставите съобщение чрез информацията за контакт на уеб страницата. Искрено приветстваме нови и стари клиенти да посетят нашата фабрика за консултация и преговори.