30 мм алуминиев нитриден вафлен субстрат

Semicorex 30mm алуминиев нитриден вафлен субстрат се отличава със забележителни свойства, които са от съществено значение за усъвършенствани полупроводникови приложения. Техният широк обхват позволява на устройствата да работят при високи напрежения и температури, като същевременно минимизират електрическите утечки, които са от решаващо значение за силовата електроника. Високата топлопроводимост на 30-милиметровия алуминиев нитриден вафлен субстрат е от основно значение за управлението на топлината, генерирана в устройства с висока мощност, като ефективно подобрява надеждността и производителността на устройството. Освен това, силното поле на пробив на 30 mm алуминиев нитрид вафлен субстрат позволява устройства, които могат да издържат на силни електрически полета без разрушаване, идеални за приложения, изискващи висока плътност на мощността и ефективност.

30-милиметровите алуминиево-нитридни вафлени субстрати показват висока подвижност на електрони, което означава по-бързи електронни устройства с по-добра честотна характеристика. Тази характеристика е особено полезна при производството на радиочестотни (RF) устройства и високоскоростна електроника, където се изисква бързо предаване и обработка на сигнала. В допълнение, устойчивостта на корозия и радиация на 30 mm алуминиев нитриден вафлен субстрат го прави изключителен избор за тежки среди, като космически приложения, където материалите са изложени на корозивни газове и високи нива на радиация. Тази устойчивост гарантира дългосрочна надеждност и функционалност на устройствата при екстремни условия, което прави 30 mm алуминиев нитриден вафлен субстрат оптимален субстрат за оптоелектронни устройства и електронни компоненти с висока мощност/висока честота.

В момента предлагаме на нашите клиенти стандартизирани висококачествени монокристални субстратни продукти от алуминиев нитрид с размери 10x10 mm, Φ10 mm, Φ15 mm, Φ20 mm, Φ25,4 mm, Φ30 mm и Φ50,8 mm. В допълнение, ние също доставяме неполярни монокристални субстрати от алуминиев нитрид с M-лице в диапазона 10-20 mm. За индивидуални нужди можем да персонализираме полиращи срезове за монокристален субстрат от алуминиев нитрид, вариращи от 5 мм до 50,8 мм. Този широк спектър от предложения отговаря на множеството нужди на клиентите и дава възможност за изследване на различни технологични граници.