Първата компания за индустриализация на 6-инчов субстрат от галиев оксид

Наскоро нашата компания обяви, че компанията успешно е разработила 6-инчовГалиев оксид（Ga2O3）монокристал, използващ метода на леене, превръщайки се в първата местна индустриализирана компания, която овладява технологията за подготовка на 6-инчов монокристален субстрат от галиев оксид.

Компанията използва самостоятелно иновативен метод за отливане, за да подготви успешно висококачествен 6-инчов непреднамерено легиран и проводим монокристал от галиев оксид и обработи6-инчов субстрат от галиев оксид.

В сравнение с традиционните полупроводникови материали от силициев карбид, полупроводниковият материал от четвърто поколениеГалиев оксидима по-високо издържащо напрежение, по-ниска цена и по-висока енергоспестяваща ефективност. С отличното си представяне и евтино производство,Галиев оксидсе използва главно за подготовка на захранващи устройства, радиочестотни устройства и устройства за откриване. Той се използва широко в железопътния транзит, интелигентните мрежи, новите енергийни превозни средства, фотоволтаичното производство на електроенергия, 5G мобилните комуникации, националната отбрана и военната индустрия и др.

В следващите около 10 години,Галиев оксидустройствата вероятно ще станат конкурентни силови електронни устройства и ще се конкурират директно с устройствата от силициев карбид. В допълнение, индустрията като цяло вярва, че в бъдеще,Галиев оксидсе очаква да замениСилициев карбиди галиев нитрид, за да се превърне в представител на ново поколение полупроводникови материали.