Какво е MOCVD система?

MOCVD, известно като металоорганично химическо отлагане на пари (MOCVD), е техника за отглеждане на тънки полупроводникови филми върху субстрат. С MOCVD много нанослоеве могат да бъдат отложени с голяма прецизност, всеки с контролирана дебелина, за да се образуват материали със специфични оптични и електрически свойства.

Системата MOCVD е вид система за химическо отлагане на пари (CVD), която използва метални органични прекурсори за отлагане на тънки филми от материал върху субстрат. Системата се състои от корпус на реактора, система за подаване на газ, държач за субстрат и система за контрол на температурата. Металните органични прекурсори се въвеждат в съда на реактора заедно с газ-носител и температурата се контролира внимателно, за да се осигури растеж на висококачествен тънък филм.

Използването на MOCVD има няколко предимства пред другите техники за отлагане. Едно предимство е, че позволява отлагането на сложни материали с прецизен контрол върху дебелината и състава на тънките слоеве. Това е особено важно за производството на високопроизводителни полупроводникови устройства, където материалните свойства на тънките слоеве могат да имат значително влияние върху производителността на устройството.

Друго предимство на MOCVD е, че може да се използва за отлагане на тънки филми върху различни субстрати, включително силиций, сапфир и галиев арсенид. Тази гъвкавост го прави основен процес в производството на широка гама от полупроводникови устройства, от компютърни чипове до светодиоди.

MOCVD системите се използват широко в полупроводниковата индустрия и са допринесли за разработването на много напреднали технологии. Например MOCVD е използван за производството на високоефективни светодиоди за осветление и дисплеи, както и високопроизводителни слънчеви клетки за фотоволтаични приложения.