MOCVD е ключовото оборудване

Оборудването MOCVD е ключовото оборудване в производствения процес на полупроводниковата индустрия, но също така и голяма част от инвестициите в оборудване във веригата на полупроводниковата индустрия (три основни процеса и оборудване: литография, ецване, отлагане на тънък слой), инвестиции в производствена линия за светодиоди, MOCVD сумата на инвестицията може да достигне до 50%. При CVD оборудването субстратът не може да бъде поставен директно върху метала или просто поставен върху основа за епитаксиално отлагане, тъй като това включва влиянието на различни фактори като посока на газовия поток (хоризонтална, вертикална), температура, налягане, фиксиране , отделяне на замърсители. Следователно се използва основа и субстратът се поставя върху диск и след това се извършва епитаксиално отлагане върху субстрата с помощта на CVD технология. Тази основа е графит с SiC покритиевъзприемач(което също може да се нарече aносител), а неговата структура е показана на фигурата по-долу.